Near-field optical mapping of the ion-implanted patterns...

Vacuum 2005 Vol. 79; Iss. 1-2

Near-field optical mapping of the ion-implanted patterns fabricated in amorphous silicon carbide

T. Tsvetkova, S. Takahashi, A. Zayats, P. Dawson, R. Turner, L. Bischoff, O. Angelov, D. Dimova-Malinovska
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Volume:
79
Année:
2005
Langue:
english
Pages:
6
DOI:
10.1016/j.vacuum.2005.02.002
Fichier:
PDF, 347 KB
english, 2005
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