Plasma-assisted deposition of thin silicon oxide films in a...

Vacuum 2004 Vol. 75; Iss. 4

Plasma-assisted deposition of thin silicon oxide films in a remote PECVD reactor and characterization of films produced under different conditions

F Hamelmann, A Aschentrup, A Brechling, U Heinzmann, A Gushterov, A Szekeres, S Simeonov
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Volume:
75
Année:
2004
Langue:
english
Pages:
6
DOI:
10.1016/j.vacuum.2004.03.012
Fichier:
PDF, 345 KB
english, 2004
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