HfO2 etching mechanism in inductively-coupled Cl2/Ar plasma

Thin Solid Films 2011 Vol. 519; Iss. 20

HfO2 etching mechanism in inductively-coupled Cl2/Ar plasma

Moonkeun Kim, Alexander Efremov, Hyun Woo Lee, Hyung-Ho Park, MunPyo Hong, Nam Ki Min, Kwang-Ho Kwon
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Volume:
519
Année:
2011
Langue:
english
Pages:
4
DOI:
10.1016/j.tsf.2011.04.059
Fichier:
PDF, 515 KB
english, 2011
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