Ellipsometric study of the influence of chemical etching on...

Thin Solid Films 2011 Vol. 519; Iss. 9

Ellipsometric study of the influence of chemical etching on thin porous silicon structures

J. Selj, A. Thøgersen, S.E. Foss, E.S. Marstein
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Volume:
519
Année:
2011
Langue:
english
Pages:
4
DOI:
10.1016/j.tsf.2010.12.231
Fichier:
PDF, 585 KB
english, 2011
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