Evolution of SiO2/Ge/HfO2(Ge) multilayer structure during...

Thin Solid Films 2010 Vol. 518; Iss. 9

Evolution of SiO2/Ge/HfO2(Ge) multilayer structure during high temperature annealing

D. Sahin, I. Yildiz, A.I. Gencer, G. Aygun, A. Slaoui, R. Turan
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Volume:
518
Année:
2010
Langue:
english
Pages:
5
DOI:
10.1016/j.tsf.2009.09.156
Fichier:
PDF, 521 KB
english, 2010
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