Formation of gas barrier films by Cat-CVD method using...

Thin Solid Films 2008 Vol. 516; Iss. 5

Formation of gas barrier films by Cat-CVD method using organic silicon compounds

Takuya Oyaidu, Yohei Ogawa, Kazuhiko Tsurumaki, Keisuke Ohdaira, Hideki Matsumura
Avez-vous aimé ce livre?
Quelle est la qualité du fichier téléchargé?
Veuillez télécharger le livre pour apprécier sa qualité
Quelle est la qualité des fichiers téléchargés?
Volume:
516
Année:
2008
Langue:
english
Pages:
3
DOI:
10.1016/j.tsf.2007.06.214
Fichier:
PDF, 459 KB
english, 2008
La conversion en est effectuée
La conversion en a échoué