The effect of argon dilution on deposition of...

The effect of argon dilution on deposition of microcrystalline silicon by microwave plasma enhanced chemical vapor deposition

W.J. Soppe, C. Devilee, M. Geusebroek, J. Löffler, H.-J. Muffler
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Volume:
515
Année:
2007
Langue:
english
Pages:
5
DOI:
10.1016/j.tsf.2006.11.156
Fichier:
PDF, 537 KB
english, 2007
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