Evolution of Ar Implanted Amorphous Silicon Dioxide under...

Solid State Phenomena 2011 / 6 Vol. 172-174

Evolution of Ar Implanted Amorphous Silicon Dioxide under High Voltage Electron Beam

Oliviero, Erwan, Collin, Sophie, Bachelet, Cyril, Moeyaert, Jeremy, Borodin, Vladimir A., Ruault, Marie Odile
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Volume:
172-174
Langue:
english
Journal:
Solid State Phenomena
DOI:
10.4028/www.scientific.net/SSP.172-174.697
Date:
June, 2011
Fichier:
PDF, 4.44 MB
english, 2011
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