Boron Diffusion in Strained and Relaxed Si1-xGex

Defect and Diffusion Forum 2001 Vol. 194-199

Boron Diffusion in Strained and Relaxed Si1-xGex

Zangenberg, N.R., Fage-Pedersen, J., Lundsgaard Hansen, J., Nylandsted-Larsen, Arne
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Volume:
194-199
Année:
2001
Journal:
Defect and Diffusion Forum
DOI:
10.4028/www.scientific.net/DDF.194-199.703
Fichier:
PDF, 466 KB
2001
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