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The Investigation of 4H-SiC/SiO2 Interfaces by Optical and...

Materials Science Forum 2002 Vol. 389-393

The Investigation of 4H-SiC/SiO2 Interfaces by Optical and Electrical Measurements

Ishida, Yuuki, Takahashi, Tetsuo, Okumura, Hajime, Jikimoto, Tamotsu, Tsuchida, Hidekazu, Yoshikawa, Masahito, Tomioka, Yuichi, Midorikawa, M., Hijikata, Yasuto, Yoshida, Sadafumi
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Volume:
389-393
Année:
2002
Journal:
Materials Science Forum
DOI:
10.4028/www.scientific.net/MSF.389-393.1013
Fichier:
PDF, 355 KB
2002
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