Residual stress control in MoCr thin films deposited by...

Surface and Coatings Technology 2006 Vol. 200; Iss. 22-23

Residual stress control in MoCr thin films deposited by ionized magnetron sputtering

J. Tranchant, B. Angleraud, P.Y. Tessier, M.P. Besland, J.P. Landesman, M.A. Djouadi
Avez-vous aimé ce livre?
Quelle est la qualité du fichier téléchargé?
Veuillez télécharger le livre pour apprécier sa qualité
Quelle est la qualité des fichiers téléchargés?
Volume:
200
Année:
2006
Langue:
english
Pages:
5
DOI:
10.1016/j.surfcoat.2005.11.104
Fichier:
PDF, 212 KB
english, 2006
La conversion en est effectuée
La conversion en a échoué