Growth of SiO2 films by TEOS-PECVD system for...

Surface and Coatings Technology 2004 Vol. 183; Iss. 2-3

Growth of SiO2 films by TEOS-PECVD system for microelectronics applications

A.M. Mahajan, L.S. Patil, J.P. Bange, D.K. Gautam
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Volume:
183
Année:
2004
Langue:
english
Pages:
6
DOI:
10.1016/j.surfcoat.2003.09.056
Fichier:
PDF, 234 KB
english, 2004
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