Oxide-Semiconductor Interface Characterization Using Kelvin...

MRS Proceedings 2003 / 1 Vol. 786

Oxide-Semiconductor Interface Characterization Using Kelvin Probe-AFM In Combination With Corona-Charge Deposition

Lägel, Bert, Ayala, Maria D., Oborina, Elena, Schlaf, Rudy
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Volume:
786
Langue:
english
Journal:
MRS Proceedings
DOI:
10.1557/PROC-786-E3.2
Date:
January, 2003
Fichier:
PDF, 337 KB
english, 2003
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