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ECS Transactions [ECS 218th ECS Meeting - Las Vegas, NV (October 10 - October 15, 2010)] - Metal-Organic Chemical Vapor Deposition of Ti-Doped NiO Layers for Application in Resistive Switching Memories

Meersschaut, J., Toeller, M., Schaekers, Marc, Wang, X.P., Brijs, Bert, Wouters, Dirk J., Jurczak, Malgorzata, Altamime, L., Van Elshocht, S., Vancoille, E.
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Année:
2010
Langue:
english
DOI:
10.1149/1.3481619
Fichier:
PDF, 872 KB
english, 2010
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