Silicon Oxide Composite Film Fabricated by Wet Process at...

MRS Proceedings 2008 / 1 Vol. 1113

Silicon Oxide Composite Film Fabricated by Wet Process at Low Temperature as a Passivation Layer for Printable Electric Device

Uemura, Sei, Suemori, Kouji, Yoshida, Manabu, Hoshino, Satoshi, Takada, Noriyuki, Kodzasa, Takehito, Ibraki, Nobuki, Kamata, Toshihide
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Volume:
1113
Langue:
english
Journal:
MRS Proceedings
DOI:
10.1557/PROC-1113-F09-25
Date:
January, 2008
Fichier:
PDF, 561 KB
english, 2008
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