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Tantalum diffusion barrier grown by inorganic plasma-promoted chemical vapor deposition: Performance in copper metallization

Kaloyeros, Alain E., Chen, Xiomeng, Lane, Sarah, Frisch, Harry L., Arkles, Barry
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Volume:
15
Langue:
english
Journal:
Journal of Materials Research
DOI:
10.1557/JMR.2000.0400
Date:
December, 2000
Fichier:
PDF, 965 KB
english, 2000
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