Germanium nanoparticles formation in silicon dioxide layer...

Materials Science and Engineering: B 2008 Vol. 147; Iss. 2-3

Germanium nanoparticles formation in silicon dioxide layer by multi-energy implantation of Ge negative ions and their photo-luminescence

Nobutoshi Arai, Hiroshi Tsuji, Hiroyuki Nakatsuka, Kenji Kojima, Kouichirou Adachi, Hiroshi Kotaki, Toyotsugu Ishibashi, Yasuhito Gotoh, Junzo Ishikawa
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Volume:
147
Année:
2008
Langue:
english
Pages:
5
DOI:
10.1016/j.mseb.2007.08.023
Fichier:
PDF, 600 KB
english, 2008
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