Effect of deposition rate and thickness on the structural...

Microelectronics Journal 2008 Vol. 39; Iss. 12

Effect of deposition rate and thickness on the structural and electrical properties of evaporated Ni/glass and Ni/Si(1 0 0) thin films

M. Hemmous, A. Layadi, A. Guittoum, A. Bourzami, A. Benabbas
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Volume:
39
Année:
2008
Langue:
english
Pages:
5
DOI:
10.1016/j.mejo.2008.03.005
Fichier:
PDF, 304 KB
english, 2008
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