High Cu Diffusion Resistance in Ultrathin Multiquasi-amorphous CVD-Ti/TiN[sub x] Films
Ou, Keng-Liang, Chiou, Shi-Yung, Lin, Ming-HongVolume:
151
Année:
2004
Langue:
english
Journal:
Journal of The Electrochemical Society
DOI:
10.1149/1.1801393
Fichier:
PDF, 907 KB
english, 2004