Effects of Ar and O2 additives on photopatternable sol–gel...

Effects of Ar and O2 additives on photopatternable sol–gel etching in an SF6-based plasma for planar lightwave circuit fabrication

B. Kolodziejczyk, A.R. Ellingboe, S. Daniels, L. Oksuz, M. Oubaha, H. Barry, R. Copperwhite, K. O’Dwyer, B.D. MacCraith

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Volume:

Année:

2010

Langue:

english

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DOI:

10.1016/j.mee.2009.12.084

Fichier:

PDF, 571 KB

english, 2010

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