Electron beam nanolithography in AZnLOF 2020

Microelectronic Engineering 2010 Vol. 87; Iss. 11

Electron beam nanolithography in AZnLOF 2020

Etienne Herth, Pascal Tilmant, Marc Faucher, Marc François, Christophe Boyaval, Francois Vaurette, Yves Deblocq, Bernard Legrand, Lionel Buchaillot
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Volume:
87
Année:
2010
Langue:
english
Pages:
4
DOI:
10.1016/j.mee.2009.12.079
Fichier:
PDF, 617 KB
english, 2010
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