Charged Particle Nanopatterning (CHARPAN) of 2D and 3D...

Microelectronic Engineering 2010 Vol. 87; Iss. 5-8

Charged Particle Nanopatterning (CHARPAN) of 2D and 3D masters for flexible replication in Substrate Conformal Imprint Lithography (SCIL)

Falco van Delft, Robert van de Laar, Marc Verschuuren, Elmar Platzgummer, Hans Loeschner
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Volume:
87
Année:
2010
Langue:
english
Pages:
4
DOI:
10.1016/j.mee.2009.11.088
Fichier:
PDF, 1.30 MB
english, 2010
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