Electron beam lithography of HSQ/PMMA bilayer resists for...

Microelectronic Engineering 2008 Vol. 85; Iss. 5-6

Electron beam lithography of HSQ/PMMA bilayer resists for negative tone lift-off process

Haifang Yang, Aizi Jin, Qiang Luo, Junjie Li, Changzhi Gu, Zheng Cui
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Volume:
85
Année:
2008
Langue:
english
Pages:
4
DOI:
10.1016/j.mee.2008.01.006
Fichier:
PDF, 797 KB
english, 2008
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