Deposition temperature determination of HDPCVD silicon...

Microelectronic Engineering 2005 Vol. 82; Iss. 3-4

Deposition temperature determination of HDPCVD silicon dioxide films

G. Gulleri, C. Carpanese, C. Cascarano, D. Lodi, R. Ninni, G. Ottaviani
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Volume:
82
Année:
2005
Langue:
english
Pages:
6
DOI:
10.1016/j.mee.2005.07.079
Fichier:
PDF, 386 KB
english, 2005
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