Carbon hard masks for etching sub-90 nm structures

Kevin A. Pears, Momtchil Stavrev, Alessia Scire, Ralf Koepe, Matthias Markert, Ulrich Egger, Lee Donohue

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Volume:

Année:

2005

Langue:

english

Pages:

DOI:

10.1016/j.mee.2005.05.002

Fichier:

PDF, 714 KB

english, 2005

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Carbon hard masks for etching sub-90&#xa0;nm structures