Degradation of a tantalum filament during the hot-wire CVD...

Thin Solid Films 2015 / 01 Vol. 575

Degradation of a tantalum filament during the hot-wire CVD of silicon nitride thin films

Oliphant, C.J., Arendse, C.J., Muller, T.F.G., Jordaan, W.A., Knoesen, D.
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Volume:
575
Langue:
english
Journal:
Thin Solid Films
DOI:
10.1016/j.tsf.2014.10.012
Date:
January, 2015
Fichier:
PDF, 1.18 MB
english, 2015
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