Photochemical Etching of GaAs using Synchrotron Radiation

Japanese Journal of Applied Physics 1990 / 5 Vol. 29; Iss. Part 2, No

Photochemical Etching of GaAs using Synchrotron Radiation

Terakado, Shingo, Nishino, Jun-ichi, Morigami, Mitsuaki, Harada, Mitsuaki, Suzuki, Shigeo, Tanaka, Kenichiro, Chikawa, Jun-ichi
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Volume:
29
Journal:
Japanese Journal of Applied Physics
DOI:
10.1143/jjap.29.l709
Date:
May, 1990
Fichier:
PDF, 1.07 MB
1990
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