Investigation of nitrogen behaviors during Czochralski...

Journal of Crystal Growth 2011 Vol. 318; Iss. 1

Investigation of nitrogen behaviors during Czochralski silicon crystal growth

Xuegong Yu, Deren Yang, Keigo Hoshikawa
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Volume:
318
Année:
2011
Langue:
english
Pages:
5
DOI:
10.1016/j.jcrysgro.2010.10.087
Fichier:
PDF, 569 KB
english, 2011
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