Reactive Ion Beam Etching Using a Selective Gallium Doping...

Japanese Journal of Applied Physics 1989 / 9 Vol. 28; Iss. Part 2, No

Reactive Ion Beam Etching Using a Selective Gallium Doping Method

Nishioka, Kyusaku, Morimoto, Hiroaki, Mashiko, Yoji, Kato, Tadao
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Volume:
28
Journal:
Japanese Journal of Applied Physics
DOI:
10.1143/jjap.28.l1671
Date:
September, 1989
Fichier:
PDF, 267 KB
1989
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