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Fast determination of the effective channel length and the...

IEEE Electron Device Letters 1984 / 09 Vol. 5; Iss. 9

Fast determination of the effective channel length and the gate Oxide thickness in polycrystalline Silicon MOSFET's

Korma, E.J., Visser, K., Snijder, J., Verwey, J.F.
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Volume:
5
Langue:
english
Journal:
IEEE Electron Device Letters
DOI:
10.1109/edl.1984.25949
Date:
September, 1984
Fichier:
PDF, 299 KB
english, 1984
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