Mechanism of Boron Diffusion in Amorphous Silicon

Physical Review Letters 2008 / 4 Vol. 100; Iss. 15

Mechanism of Boron Diffusion in Amorphous Silicon

Mirabella, Salvatore, De Salvador, Davide, Bruno, Elena, Napolitani, Enrico, Pecora, Emanuele F., Boninelli, Simona, Priolo, Francesco
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Volume:
100
Langue:
english
Journal:
Physical Review Letters
DOI:
10.1103/physrevlett.100.155901
Date:
April, 2008
Fichier:
PDF, 234 KB
english, 2008
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