Fluorine atom subsurface diffusion and reaction in...

Journal of Applied Physics 2003 Vol. 94; Iss. 12

Fluorine atom subsurface diffusion and reaction in photoresist

Greer, Frank, Fraser, D., Coburn, J. W., Graves, David B.
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Volume:
94
Année:
2003
Langue:
english
Journal:
Journal of Applied Physics
DOI:
10.1063/1.1625782
Fichier:
PDF, 357 KB
english, 2003
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