Interfacial reaction between a Ni/Ge bilayer and silicon...

Journal of Applied Physics 1990 Vol. 67; Iss. 5

Interfacial reaction between a Ni/Ge bilayer and silicon (100)

Li, Jian, Hong, Q. Z., Mayer, J. W., Rathbun, Lynn
Avez-vous aimé ce livre?
Quelle est la qualité du fichier téléchargé?
Veuillez télécharger le livre pour apprécier sa qualité
Quelle est la qualité des fichiers téléchargés?
Volume:
67
Année:
1990
Langue:
english
Journal:
Journal of Applied Physics
DOI:
10.1063/1.345502
Fichier:
PDF, 846 KB
english, 1990
La conversion en est effectuée
La conversion en a échoué