Improved Rear-Side Passivation by Atomic Layer Deposition...

IEEE Electron Device Letters 2013 / 09 Vol. 34; Iss. 9

Improved Rear-Side Passivation by Atomic Layer Deposition ${\rm Al}_{2}{\rm O}_{3}/{\rm SiN}_{x}$ Stack Layers for High $V_{\rm OC}$ Industrial $p$-Type Silicon Solar Cells

Lin, Je-Wei, Chen, Yi-Yang, Gan, Jon-Yiew, Hseih, Wei-Ping, Du, Chen-Hsu, Chao, Tien-Sheng
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Volume:
34
Langue:
english
Journal:
IEEE Electron Device Letters
DOI:
10.1109/led.2013.2271894
Date:
September, 2013
Fichier:
PDF, 394 KB
english, 2013
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