Electron and hole mobilities at a Si/SiO2 interface with...

Applied Physics Letters 2013 Vol. 102; Iss. 19

Electron and hole mobilities at a Si/SiO2 interface with giant valley splitting

Niida, Yoshitaka, Takashina, Kei, Ono, Yukinori, Fujiwara, Akira, Hirayama, Yoshiro
Avez-vous aimé ce livre?
Quelle est la qualité du fichier téléchargé?
Veuillez télécharger le livre pour apprécier sa qualité
Quelle est la qualité des fichiers téléchargés?
Volume:
102
Année:
2013
Langue:
english
Journal:
Applied Physics Letters
DOI:
10.1063/1.4803014
Fichier:
PDF, 1.11 MB
english, 2013
La conversion en est effectuée
La conversion en a échoué