Electrical, structural and etching characteristics of...

Current Applied Physics 2010 Vol. 10; Iss. 2-supp-S

Electrical, structural and etching characteristics of ZnO:Al films prepared by rf magnetron

Yong Hyun Kim, Kyung Seok Lee, Taek Sung Lee, Byung-ki Cheong, Tae-Yeon Seong, Won Mok Kim
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Volume:
10
Année:
2010
Langue:
english
Pages:
1
DOI:
10.1016/j.cap.2009.11.061
Fichier:
PDF, 360 KB
english, 2010
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