Low temperature plasma etching for Si[sub 3]N[sub 4]...

Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 2008 Vol. 26; Iss. 2

Low temperature plasma etching for Si[sub 3]N[sub 4] waveguide applications

Celo, D., Vandusen, R., Smy, T., Albert, J., Tarr, N. G., Waldron, P. D.
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Volume:
26
Année:
2008
Langue:
english
Journal:
Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films
DOI:
10.1116/1.2836424
Fichier:
PDF, 778 KB
english, 2008
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