The effects of crystallographic orientation and strain of...

Applied Physics Letters 2014 / 02 Vol. 104; Iss. 7

The effects of crystallographic orientation and strain of thin Hf0.5Zr0.5O2 film on its ferroelectricity

Hyuk Park, Min, Joon Kim, Han, Jin Kim, Yu, Moon, Taehwan, Seong Hwang, Cheol
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Volume:
104
Langue:
english
Journal:
Applied Physics Letters
DOI:
10.1063/1.4866008
Date:
February, 2014
Fichier:
PDF, 1.30 MB
english, 2014
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