Deactivation of submelt laser annealed arsenic ultrashallow...

Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures 2010 Vol. 28; Iss. 1

Deactivation of submelt laser annealed arsenic ultrashallow junctions in silicon during subsequent thermal treatment

Giubertoni, Damiano, Pepponi, Giancarlo, Sahiner, Mehmet Alper, Kelty, Stephen P., Gennaro, Salvatore, Bersani, Massimo, Kah, Max, Kirkby, Karen J., Doherty, Roisin, Foad, Majeed A., Meirer, F., Strel
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Volume:
28
Année:
2010
Langue:
english
Journal:
Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures
DOI:
10.1116/1.3242637
Fichier:
PDF, 659 KB
english, 2010
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