High rate straining of tantalum and copper

High rate straining of tantalum and copper

Armstrong, R W, Zerilli, F J
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Volume:
43
Langue:
english
Journal:
Journal of Physics D: Applied Physics
DOI:
10.1088/0022-3727/43/49/492002
Date:
December, 2010
Fichier:
PDF, 226 KB
english, 2010
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