Hydrogen, fluorine ion implantation effects on...

Hydrogen, fluorine ion implantation effects on polycrystalline silicon grain boundaries

Akihisa Yoshida, Masatoshi Kitagawa, Fumiyo Tojo, Nobutaka Egashira, Keisuke Nakagawa, Tomio Izumi, Takashi Hirao
Avez-vous aimé ce livre?
Quelle est la qualité du fichier téléchargé?
Veuillez télécharger le livre pour apprécier sa qualité
Quelle est la qualité des fichiers téléchargés?
Volume:
34
Année:
1994
Langue:
english
Pages:
7
DOI:
10.1016/0927-0248(94)90042-6
Fichier:
PDF, 310 KB
english, 1994
La conversion en est effectuée
La conversion en a échoué