Self-diffusion of Si in thermally grown SiO[sub 2] under...

Self-diffusion of Si in thermally grown SiO[sub 2] under equilibrium conditions

Takahashi, Tomonori, Fukatsu, Shigeto, Itoh, Kohei M., Uematsu, Masashi, Fujiwara, Akira, Kageshima, Hiroyuki, Takahashi, Yasuo, Shiraishi, Kenji

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Volume:

Année:

2003

Langue:

english

Journal:

Journal of Applied Physics

DOI:

10.1063/1.1554487

Fichier:

PDF, 282 KB

english, 2003

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