Concentration profiles and electrical characterization of...

Concentration profiles and electrical characterization of high energy phosphorus implants in 〈100〉 silicon

G. Galvagno, A. Cacciato, F. Benyaïch, V. Raineri, F. Priolo, E. Rimini, S. Capizzi, P. Romano
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Volume:
10
Année:
1991
Langue:
english
Pages:
7
DOI:
10.1016/0921-5107(91)90096-e
Fichier:
PDF, 558 KB
english, 1991
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