Diffusion of ion implanted boron in preamorphized silicon

Jones, K. S., Zhang, L. H., Krishnamoorthy, V., Law, M., Simons, D. S., Chi, P., Rubin, L., Elliman, R. G.

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Volume:

Année:

1996

Langue:

english

Journal:

Applied Physics Letters

DOI:

10.1063/1.116277

Fichier:

PDF, 377 KB

english, 1996

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