Spin-coatable HfO[sub 2] resist for optical and electron...

Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures 2010 Vol. 28; Iss. 1

Spin-coatable HfO[sub 2] resist for optical and electron beam lithographies

Saifullah, M. S. M., Khan, M. Z. R., Hasko, David G., Leong, Eunice S. P., Neo, Xue L., Goh, Eunice T. L., Anderson, David, Jones, Geraint A. C., Welland, Mark E.
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Volume:
28
Année:
2010
Langue:
english
Journal:
Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures
DOI:
10.1116/1.3273536
Fichier:
PDF, 928 KB
english, 2010
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