Atomic diffusion in the interface of Fe/Si prepared by...

Physics Procedia 2011 Vol. 11; Iss. none

Atomic diffusion in the interface of Fe/Si prepared by magnetron sputtering

J. Zhang, Q. Xie, Y. Liang, W. Zeng, Q. Xiao, Q. Chen, V. Borjanović, M. Jakšić, M. Karlusic, B. Gržeta, K. Yamada, J. Luo
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Volume:
11
Année:
2011
Langue:
english
Pages:
4
DOI:
10.1016/j.phpro.2011.01.020
Fichier:
PDF, 292 KB
english, 2011
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