Growth of Bulk SiC by Halide Chemical Vapor Deposition

Materials Science Forum 2004 Vol. 457-460

Growth of Bulk SiC by Halide Chemical Vapor Deposition

Fanton, M., Skowronski, Marek, Snyder, David W., Chung, Hun Jae, Nigam, Saurav, Weiland, B., Huh, Sung Wook
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Volume:
457-460
Année:
2004
Langue:
english
Journal:
Materials Science Forum
DOI:
10.4028/www.scientific.net/msf.457-460.87
Fichier:
PDF, 242 KB
english, 2004
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