Study of Development Processes for ZEP-520 as a...

Japanese Journal of Applied Physics 2012 / 6 Vol. 51

Study of Development Processes for ZEP-520 as a High-Resolution Positive and Negative Tone Electron Beam Lithography Resist

Mohammad, Mohammad Ali, Koshelev, Kirill, Fito, Taras, Zheng, David Ai Zhi, Stepanova, Maria, Dew, Steven
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Volume:
51
Langue:
english
Journal:
Japanese Journal of Applied Physics
DOI:
10.1143/jjap.51.06fc05
Date:
June, 2012
Fichier:
PDF, 831 KB
english, 2012
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