Sputtering by highly charged ions: Application of the...

Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms 2007 Vol. 258; Iss. 1

Sputtering by highly charged ions: Application of the XY–TOF technique to secondary ion ejection from LiF

J. Lenoir, P. Boduch, H. Rothard, B. Ban-d’Etat, T. Been, A. Cassimi, T. Jalowy, H. Lebius, B. Manil, J.M. Ramillon
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Volume:
258
Année:
2007
Langue:
english
Pages:
5
DOI:
10.1016/j.nimb.2006.12.131
Fichier:
PDF, 641 KB
english, 2007
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