Native oxide removal from SiGe using mixtures of HF and...

Materials Science in Semiconductor Processing 2005 Vol. 8; Iss. 1-3

Native oxide removal from SiGe using mixtures of HF and water delivered by aqueous, gas, and supercritical CO2 processes

Bo Xie, Gerardo Montaño-Miranda, Casey C. Finstad, Anthony J. Muscat
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Volume:
8
Année:
2005
Langue:
english
Pages:
7
DOI:
10.1016/j.mssp.2004.09.104
Fichier:
PDF, 282 KB
english, 2005
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